| 摘要 |
【課題】チャンバ上部空間の圧力を容易に制御する。【解決手段】基板処理装置１は、カップ部４の周囲を囲む筒状の周辺側壁部８１と、周辺側壁部８１の上端部からチャンバ側壁部１１１へと環状に広がることにより、周辺側壁部８１とチャンバ側壁部１１１との間の空間であるチャンバ下部周辺空間１４をチャンバ１１内の他の空間から仕切る仕切部８２とを備える。仕切部８２には、開閉可能な仕切開口部８２１が設けられる。トッププレート５が、基板保持部３１に近接する第２の位置に移動される際には、圧力制御部が仕切開口部８２１の開口率を増大させる。これにより、チャンバ上部空間１５のガスが、チャンバ下部周辺空間１４へと導かれてチャンバ１１外へと排出される。その結果、チャンバ上部空間１５の圧力が容易に制御され、チャンバ１１外の圧力よりも低い圧力に容易に維持される。【選択図】図２ |
