摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung, insbesondere Plasmaboot, zur Aufnahme von plattenförmigen Substraten, insbesondere von Solarzellen, zur Behandlung derselben in einer Behandlungseinrichtung, wobei jedes Substrat eine Vorderseite und eine der Vorderseite gegenüberliegenden Rückseite aufweist, umfassend mindestens eine Aufnahmevorrichtung zur Aufnahme und Fixierung der Substrate, wobei die Aufnahmevorrichtung mindestens zwei, insbesondere eine Vielzahl von, Aufnahmebereichen aufweist, wobei in jedem Aufnahmebereich mindestens zwei Substrate angeordnet oder anordnenbar sind, wobei eine Rückseite eines ersten Substrats direkt mit eine Rückseite eines zweiten Substrats in Anlage bringbar ist oder steht sowie eine Verwendung einer solchen Vorrichtung |