发明名称 | 成像设备 | ||
摘要 | 一种成像设备,包括主体、后处理装置、对象作业部、光源和遮光构件。后处理装置被设置为能够在缩回位置和突出位置之间自由地移位,在所述缩回位置处后处理装置被接纳到主体的体内纸张排出部内,在所述突出位置处后处理装置被拉向一个侧面侧。对象作业部沿后处理装置的拉出方向被设置于后处理装置的上游侧面。光源被设置于后处理装置的上游侧面,并在突出位置中照亮对象作业部。遮光构件被设置于后处理装置的上游侧面且位于光源的前面侧,并且阻挡光源的到达前面侧的直射光。 | ||
申请公布号 | CN104035299B | 申请公布日期 | 2017.01.11 |
申请号 | CN201410235915.0 | 申请日期 | 2010.08.25 |
申请人 | 夏普株式会社 | 发明人 | 松本良孝;辻优 |
分类号 | G03G15/00(2006.01)I | 主分类号 | G03G15/00(2006.01)I |
代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 梁晓广;关兆辉 |
主权项 | 一种成像设备,包括:主体,所述主体包括空间,所述空间是分别被图像读取部和图像形成部在上侧和下侧之间所夹的空间并向前面侧敞开,所述图像读取部用于读取文档的图像并产生一组图像数据,所述图像形成部用于基于所述一组图像数据在记录介质上执行成像处理;光源,所述光源被设置于所述空间的内面;以及遮光构件,所述遮光构件被设置于所述内面中的所述光源的前面侧,所述遮光构件用于阻挡所述光源的到达所述前面侧的直射光,在所述内面表面的法线方向上,所述遮光构件在高度上的尺寸比所述光源在高度上的尺寸大。 | ||
地址 | 日本大阪府大阪市 |