| 发明名称 | 一种光催化降解真菌毒素的杂化材料graphene/C<sub>3</sub>N<sub>4</sub>及其制备方法和应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光催化降解真菌毒素的杂化材料graphene/C<sub>3</sub>N<sub>4</sub>，它是由氧化石墨烯和纳米光催化剂g‑C<sub>3</sub>N<sub>4</sub>按照质量比为0.1‑10:100的比例经过水热合成法制得的具有层层组装结构的杂化材料graphene/C<sub>3</sub>N<sub>4</sub>；另外，本发明通过石墨烯修饰量和光降解时间等条件考察了杂化材料graphene/C<sub>3</sub>N<sub>4</sub>对光催化降解真菌毒素的影响。本发明通过水热法制备具有可见光响应的杂化材料graphene/C<sub>3</sub>N<sub>4</sub>，工艺简单，适合于工业化大批量生产，并且将光催化降解技术应用于降解真菌毒素领域具有很高的应用前景和实用价值。 | ||
| 申请公布号 | CN106311303A | 申请公布日期 | 2017.01.11 |
| 申请号 | CN201610582810.1 | 申请日期 | 2016.07.22 |
| 申请人 | 国家粮食局科学研究院 | 发明人 | 白小娟;孙长坡;罗晓宏;伍松陵;王峻;柴成梁 |
| 分类号 | B01J27/24(2006.01)I;A23L5/20(2016.01)I | 主分类号 | B01J27/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人 | 张文祎;赵晓丹 |
| 主权项 | 一种光催化降解真菌毒素的杂化材料graphene/C<sub>3</sub>N<sub>4</sub>，其特征在于，它是由氧化石墨烯和纳米光催化剂g‑C<sub>3</sub>N<sub>4</sub>按照质量比为0.1‑10:100的比例经过水热合成法制得的具有层层组装结构的杂化材料graphene/C<sub>3</sub>N<sub>4</sub>。 | ||
| 地址 | 100037 北京市西城区百万庄大街11号 | ||