发明名称 | 用于防止雾度的掩模表膜指示物 | ||
摘要 | 本发明涉及一种用于防止雾度的掩模表膜指示物。具体而言,本发明提供一种表膜掩模组合件,其包含掩模、表膜框架和表膜薄膜。所述表膜框架具有附着到所述掩模的底侧和由所述表膜薄膜覆盖的顶侧。所述表膜框架包含在其内表面上的涂层且所述涂层经配置以监测所述表膜掩模组合件内部的环境变化。在实施例中,所述环境变化包含所述表膜掩模组合件内部增大的湿度和/或增大的化学离子密度。还揭示制造和使用所述表膜掩模组合件的方法。 | ||
申请公布号 | CN106324982A | 申请公布日期 | 2017.01.11 |
申请号 | CN201510843150.3 | 申请日期 | 2015.11.26 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 林冠文;秦圣基;许庭豪;周子婷;吴书贤 |
分类号 | G03F1/82(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/82(2012.01)I |
代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 路勇 |
主权项 | 一种在半导体制造中的设备,其包括:掩模;表膜框架,其具有底侧和顶侧,其中所述底侧附着到所述掩模;以及表膜薄膜,其覆盖所述表膜框架的所述顶侧,其中所述掩模、所述表膜框架和所述表膜薄膜形成掩模组合件,且其中所述表膜框架包含在其内表面上的涂层且所述涂层经配置以监测所述掩模组合件内部的环境变化。 | ||
地址 | 中国台湾新竹市新竹科学工业园力行六路8号 |