发明名称 |
半导体装置 |
摘要 |
本发明提供一种提高针对接合时的应力的耐性的半导体装置,在接合焊盘(301)的周围隔着空隙(601)配置有布线层(303),钝化膜(401)比形成接合焊盘(301)的布线层(303)的膜厚更薄,空隙(601)的宽度为钝化膜厚的2倍以下,且钝化膜比布线层更薄。 |
申请公布号 |
CN106328626A |
申请公布日期 |
2017.01.11 |
申请号 |
CN201610500365.X |
申请日期 |
2016.06.30 |
申请人 |
精工半导体有限公司 |
发明人 |
岛崎洸一 |
分类号 |
H01L23/498(2006.01)I;H01L23/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/498(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
何欣亭;姜甜 |
主权项 |
一种半导体装置,其特征在于,具有:半导体衬底;设在所述半导体衬底的表面的绝缘膜;设在所述绝缘膜上的接合焊盘;覆盖所述接合焊盘的、膜厚比所述接合焊盘的膜厚更薄的钝化膜;以及在所述接合焊盘的周围隔着空隙而配置的最上层的布线层,所述空隙的宽度为所述钝化膜的膜厚以上且所述钝化膜的侧壁厚的2倍以下。 |
地址 |
日本千叶县 |