发明名称 |
真空镀膜基片清洗方法 |
摘要 |
真空镀膜基片清洗方法,将基片固定在夹具上,往超声波机中加入洗涤剂溶液,加热到60℃左右,将基体放入超声波机里清洗10分钟后,用高压氮气将基体吹干,最后放到烘干器中烘10分钟,待基体完全干燥后装进真空室工架上,关闭真空室,开启真空系统抽气,当真空室本底真空度低于0.001帕斯卡时,通入氩气,使真空度维持在0.1帕斯卡至0.9帕斯卡,开启离子溅射电源,对工架上的基片进行溅射清洗。通过离子溅射,可以将超声清洗不完全的附着在基片表面的污渍,残余气体等去除,并且可以活化基片表面,提高薄膜与具体的结合力。 |
申请公布号 |
CN106319443A |
申请公布日期 |
2017.01.11 |
申请号 |
CN201510355273.2 |
申请日期 |
2015.06.25 |
申请人 |
马远周 |
发明人 |
马远周 |
分类号 |
C23C14/02(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/02(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
真空镀膜基片清洗方法,将基片固定在夹具上,往超声波机中加入洗涤剂溶液,加热到60℃左右,将基体放入超声波机里清洗10分钟后,用高压氮气将基体吹干,最后放到烘干器中烘10分钟,待基体完全干燥后装进真空室工架上,其特征在于,还包括离子溅射清洗,当真空室本底真空度低于0.001帕斯卡时,通入氩气,使真空度维持在0.1帕斯卡至0.9帕斯卡,开启离子溅射电源,对工架上的基片进行溅射清洗。 |
地址 |
617000 四川省攀枝花市盐边县鳡鱼彝族乡大洼村大洼组16号 |