| 发明名称 | 用于处理基板的方法和装置 | ||
| 摘要 | 公开的是一种使用处理液处理基板的方法，其中，当所述处理液被供应到旋转的基板上的位置在从所述基板的中心区域朝所述基板的周边区域的向外方向上以及在从所述基板的周边区域朝所述基板的中心区域的向内方向上多次移动时，基板被处理，其中，多次移动中一些移动的移动距离彼此不同。 | ||
| 申请公布号 | CN106328490A | 申请公布日期 | 2017.01.11 |
| 申请号 | CN201610495650.7 | 申请日期 | 2016.06.29 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 李泽烨 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种使用处理液处理基板的方法，其特征在于，所述处理液被供应到旋转的基板上的一位置上，该位置称为供应位置，在所述供应位置在从所述基板的中心区域朝所述基板的周边区域的向外方向上、或者在从所述基板的周边区域朝所述基板的中心区域的向内方向上多次移动的过程中，基板被处理，其中，所述多次移动中一些移动的移动距离彼此不同。 | ||
| 地址 | 韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号 | ||