| 摘要 |
【課題】 位相シフトパターンに対して露光光を照射したときに発生する位相シフトパターンの熱膨張が小さく、位相シフトパターンの移動が小さくなるように抑制された位相シフトマスクを製造するためのマスクブランクを提供することを目的とする。【解決手段】 位相シフト膜は、ＡｒＦエキシマレーザーの露光光を２％以上３０％以下の透過率で透過させる機能と、位相シフト膜を透過した露光光に対して位相シフト膜の厚さと同じ距離だけ空気中を通過した露光光との間で１５０度以上１８０度以下の位相差を生じさせる機能とを有し、位相シフト膜は、金属およびケイ素を含有する材料で形成され、透光性基板側から下層と上層が積層した構造を含み、下層は、透光性基板よりも露光光の波長における屈折率ｎが小さく、上層は、透光性基板よりも露光光の波長における屈折率ｎが大きく、下層は、前記上層よりも露光光の波長における消衰係数ｋが大きく、上層は、下層よりも厚さが厚いことを特徴とする。【選択図】図１ |
