发明名称 DETECTION APPARATUS LITHOGRAPHY APPARATUS METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE AND DETECTION METHOD
摘要 본 발명은, 기판상의 마크의 위치를 검출하는 검출 장치를 제공하고, 상기 검출 장치는, 상기 마크를 촬상하는 촬상 소자를 갖는 촬상부와, 제1촬상이 행해진 후에 제2촬상이 행해지도록 상기 촬상부를 제어하고, 상기 제2촬상에 의해 얻어진 화상에 근거하여 상기 마크의 위치를 결정하는 처리부를 구비하고, 상기 처리부는, 상기 촬상 소자에 있어서의 전하의 축적 기간이 상기 제2촬상보다 짧아지도록 상기 제1촬상을 제어하고, 상기 제1촬상에 있어서의 상기 촬상 소자의 출력에 근거하여 상기 제2촬상의 촬상 조건을 결정한다.
申请公布号 KR20170004889(A) 申请公布日期 2017.01.11
申请号 KR20160083252 申请日期 2016.07.01
申请人 캐논 가부시끼가이샤 发明人 츠지카와 타쿠로
分类号 H01L21/66;G01N21/17;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/67;H01L23/544 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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