| 发明名称 | 一种阵列基板及其制作方法、液晶显示面板 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种阵列基板的制作方法，包括如下步骤：在基板上依次制作第一金属层、绝缘层、有源层和第二金属层；在所述基板上制作透明导电薄膜，所述透明导电薄膜覆盖所述第二金属层；在所述透明导电薄膜上涂覆第三光刻胶，在所述第三光刻胶上遮盖第三掩膜版，以在所述第三光刻胶上光刻出图案，其中，所述第二金属层在所述第三光刻胶上的投影包含于所述图案；对所述透明导电薄膜进行刻蚀，以形成透明电极层，其中，所述透明电极层覆盖所述第二金属层。本发明的制作方法降低了阵列基板的制作成本，简化了阵列基板的制作工序，提升了生产效率。本发明的阵列基板和液晶显示面板制造成本较低。 | ||
| 申请公布号 | CN106328587A | 申请公布日期 | 2017.01.11 |
| 申请号 | CN201610735560.0 | 申请日期 | 2016.08.26 |
| 申请人 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 发明人 | 甘启明 |
| 分类号 | H01L21/77(2017.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2017.01)I |
| 代理机构 | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人 | 郝传鑫;熊永强 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：在基板上依次制作第一金属层、绝缘层、有源层和第二金属层；在所述基板上制作透明导电薄膜，所述透明导电薄膜覆盖所述第二金属层；在所述透明导电薄膜上涂覆第三光刻胶，在所述第三光刻胶上遮盖第三掩膜版，以在所述第三光刻胶上光刻出图案，其中，所述第二金属层在所述第三光刻胶上的投影包含于所述图案；对所述透明导电薄膜进行刻蚀，以形成透明电极层，其中，所述透明电极层覆盖所述第二金属层。 | ||
| 地址 | 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 | ||