发明名称 気相成長用反応装置
摘要 Disclosed is a vapor deposition reactor comprising carriers and a heater for heating the carriers. The carriers include a first carrier and a second carrier formed on the first carrier, wherein the electromagnetic heating coefficient of the first carrier is greater than the electromagnetic heating coefficient of the second carrier.
申请公布号 JP6058491(B2) 申请公布日期 2017.01.11
申请号 JP20130145076 申请日期 2013.07.11
申请人 晶元光電股▲ふん▼有限公司 发明人 チェヌ,オウ;ウェイ ハヌ,ワン;チェン ツゥン,ウェン
分类号 H01L21/205;C23C16/458;H01L21/683 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
地址