发明名称 一种Fe或者Fe氧化物纳米粒子图案化分布生长的制备方法
摘要 本发明公开一种Fe或者Fe氧化物纳米粒子图案化分布生长的制备方法,利用氢化非晶硅材料的光电特性和电化学的方法,以投影仪作为诱导光源,照射到氢化非晶硅(a‑Si:H)薄膜‑ITO透明导电玻璃基底背面,在氢化非晶硅(a‑Si:H)薄膜表面形成光‑电场,在光‑电场的作用下,通过电化学技术,获得不同尺寸、不同形貌的Fe或者Fe氧化物纳米粒子,根据光场分布的改变,使氢化非晶硅(a‑Si:H)薄膜表面的电场分布发生改变,从而控制粒子图案化分布生长。
申请公布号 CN106319591A 申请公布日期 2017.01.11
申请号 CN201610828400.0 申请日期 2016.09.19
申请人 长春理工大学 发明人 王作斌;董莉彤;王璐;孟庆玲;翁占坤;宋正勋;许红梅
分类号 C25D9/04(2006.01)I;C25C5/02(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 C25D9/04(2006.01)I
代理机构 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人 成金玉;卢纪
主权项 一种Fe或者Fe氧化物纳米粒子图案化分布生长的制备方法,其特征在于:利用氢化非晶硅(a‑Si:H)的光电特性,光源经过容器和溶液照射到氢化非晶硅(a‑Si:H)薄膜‑ITO透明导电玻璃基底背面,光透过ITO透明导电玻璃基底背面照射到氢化非晶硅(a‑Si:H)薄膜背面,氢化非晶硅(a‑Si:H)薄膜在光场的作用下产生电子,形成光‑电场,再利用光‑电场的作用,通过电化学技术,获得不同尺寸、不同形貌的Fe或者Fe氧化物纳米粒子,根据光场分布的改变,使氢化非晶硅(a‑Si:H)薄膜表面的电场分布发生改变,从而控制Fe或者Fe氧化物纳米粒子图案化分布生长。
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