一种硅化学机械抛光液

摘要

本发明公开了一种硅化学机械抛光液，属于硅化学机械抛光液技术领域。具体涉及一种适用于单晶硅边缘化学机械抛光的技术领域。所述的化学机械抛光液包括：10‑30wt％的磨料，1‑10wt％的碱性物质，0.001‑1wt％的糖类物质，0.001‑0.1wt％助剂，0.01‑1wt％的流平剂，去离子水。本发明通过磨料与碱性物质的化学机械作用迅速去除单晶硅片边缘的损伤层，糖类物质降低了抛光后边缘处的表面粗糙度，助剂作为调节边抛光液黏度的物质利于抛光的均匀性，流平剂作为边抛后硅片表面保护成膜物质，能吸附于抛光后的硅片边缘表面，形成缓冲层，显著降低应力，减少外延过程中的滑移线的产生。本发明用于单晶硅边缘化学机械抛光液PH值在8‑12之间。

主权项

一种硅化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光液包括以下物质及配比：10‑30wt％的磨料；1‑10wt％的碱性物质；0.001‑1wt％的糖类物质；0.001‑0.1wt％助剂；0.01‑1wt％的流平剂；余量的去离子水；所述磨料选自纳米二氧化硅、纳米二氧化铈中的至少一种；所述纳米二氧化硅、纳米二氧化铈粒径分布范围20‑100nm；所述碱性物质为氢氧化钾、氢氧化钠、氨、甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、异丙醇胺、氨基丙醇、四乙基胺、乙二胺、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、羟胺、二乙基三胺、三乙基四胺、羟乙基乙二胺、六亚甲基二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、吡啶、哌嗪、咪唑的一种或几种；所述糖类物质选自壳聚糖、瓜尔胶及其衍生物、纤维素、果糖、蔗糖、环糊精、乳糖、半乳糖、阿拉伯糖、山梨糖、甘露糖、葡萄糖中的至少一种；所述瓜尔胶及其衍生物包括瓜尔胶、羧甲基瓜尔胶、羟丙基瓜尔胶、羧甲基羟丙基瓜尔胶中的一种或几种；所述的纤维素包括羧甲基纤维素、羟甲基纤维素、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、羟甲基丙基纤维素中的一种或几种；所述助剂包括异十三醇磷酸酯、异十三醇醚(6)磷酸酯钾盐、脂肪醇醚磷酸酯MOA3P、脂肪醇醚磷酸酯钾盐MOA3PK、脂肪醇醚磷酸酯MOA9P、酚醚磷酸酯TXP‑10、酚醚磷酸酯钾盐NP‑10PK、酚醚磷酸酯TXP‑4、酚醚磷酸酯钾盐NP‑4PK、月桂基磷酸酯MA24P、月桂基磷酸酯钾盐MA24PK中的一种或几种；所述流平剂包括乙二醇甲醚、乙二醇丙醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇甲醚、三乙二醇乙醚、三乙二醇丁醚、丙二醇甲醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二丙二醇丙醚、二丙二醇丁醚、三丙二醇丁醚、二丙二醇二甲醚、丙二醇甲醚乙酸酯、二丙二醇甲醚乙酸酯中的一种或几种。