湿法刻蚀设备

摘要

本实用新型提供一种湿法刻蚀设备，包括反应室、可旋转的支撑平台和第一喷嘴，所述反应室的内壁上设置有侦测器，所述侦测器连接到湿法刻蚀设备控制端，所述支撑平台设置在所述反应室内，所述支撑平台用于放置待处理的晶圆，所述喷嘴设置所述支撑平台上。本实用新型的湿法刻蚀设备通过在反应室的内壁上设置侦测器，该侦测器连接到湿法刻蚀设备控制端，在湿法刻蚀过程中，当晶圆转动异常时，其上的液体(反应液)将会溅射出来，当侦测器侦测到溅射到反应室的内壁上的反应液时，便可得到晶圆转动异常的信息，然后便可通过湿法刻蚀设备控制端来控制湿法刻蚀设备的工作，防止晶圆转动异常损伤到晶圆，从而及时处理并减少损失。

主权项

一种湿法刻蚀设备，其特征在于，包括：反应室，所述反应室的内壁上设置有侦测器，所述侦测器连接到湿法刻蚀设备控制端；支撑平台，所述支撑平台为可旋转的支撑平台，所述支撑平台设置在所述反应室内；第一喷嘴，所述第一喷嘴设置在所述支撑平台上。