| 发明名称 | 一种掩膜板吸附装置、光掩膜装置及曝光设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型的实施例提供一种掩膜板吸附装置、光掩膜装置及曝光设备，涉及显示技术领域，可缩小掩膜板下垂导致的光线经过掩模板后产生的偏移。该掩膜板吸附装置包括透明基板，用于将掩膜板吸附到所述透明基板的下方，其中，所述透明基板包括入射表面和出射表面，所述入射表面和所述出射表面中至少一个为凸面，用于补偿当所述掩膜板吸附装置吸附所述掩膜板时所述掩膜板下垂引起的光线偏移。 | ||
| 申请公布号 | CN205880499U | 申请公布日期 | 2017.01.11 |
| 申请号 | CN201620739782.5 | 申请日期 | 2016.07.13 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 万冀豫;杨同华;张思凯;冯贺;齐鹏煜 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种掩膜板吸附装置，包括透明基板，用于将掩膜板吸附到所述透明基板的下方，其特征在于，所述透明基板包括入射表面和出射表面，所述入射表面和所述出射表面中至少一个为凸面，用于补偿当所述掩膜板吸附装置吸附所述掩膜板时所述掩膜板下垂引起的光线偏移。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||