发明名称 METHOD FOR DEPOSITING A FILM
摘要 복수의 기판을 적재 가능한 회전 테이블과, 제1 가스 공급부와, 제2 가스 공급부를 구비하는 성막 장치를 이용한 성막 방법으로서, 상기 제1 및 제2 가스 공급부로부터 산화 가스를 공급하여 상기 회전 테이블을 회전시키는 제1 공정과, 상기 제1 가스 공급부로부터 상기 제1 원소를 포함하는 제1 반응 가스를 공급하고, 상기 제2 가스 공급부로부터 산화 가스를 공급하여 상기 회전 테이블을 회전시키고, 상기 기판 상에 상기 제1 원소를 포함하는 제1 산화막을 성막하는 제2 공정과, 상기 제1 및 제2 가스 공급부로부터 상기 산화 가스를 공급하여 상기 회전 테이블을 회전시키는 제3 공정과, 상기 제1 가스 공급부로부터 상기 제2 원소를 포함하는 제2 반응 가스를 공급하고, 상기 제2 가스 공급부로부터 상기 산화 가스를 공급하여 상기 회전 테이블을 회전시키고, 상기 기판 상에 상기 제2 원소를 포함하는 제2 산화막을 성막하는 제4 공정을 포함한다.
申请公布号 KR101695511(B1) 申请公布日期 2017.01.11
申请号 KR20130158152 申请日期 2013.12.18
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 이케가와 히로아키;가미니시 마사히코;다카하시 고스케;고아쿠츠 마사토;오가와 준
分类号 H01L21/02;C23C16/455;C23C16/458;H01L21/687 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
地址