| 发明名称 |
SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM FOR PERFORMING THE SAME |
| 摘要 |
기판 처리 방법에 있어서, 기판을 공정 챔버 내에 로딩한다. 초임계 유체를 상기 기판 상에 제공하여 초임계 유체 공정을 수행한다. 상기 초임계 유체 공정의 진행 중에 상기 공정 챔버로부터 상기 초임계 유체를 배출시킨다. 상기 배출된 유체 내에 포함된 대상 물질의 실시간 농도값을 측정한다. 상기 농도값에 따라 상기 초임계 유체 공정의 종료점을 결정한다. |
| 申请公布号 |
KR101691804(B1) |
申请公布日期 |
2017.01.10 |
| 申请号 |
KR20100128776 |
申请日期 |
2010.12.16 |
| 申请人 |
삼성전자주식회사 |
发明人 |
조용진;이근택;이효산;김영후;이정원;배상원;오정민 |
| 分类号 |
H01L21/66;B08B7/00;H01L21/02;H01L21/311;H01L21/67;H01L27/108 |
主分类号 |
H01L21/66 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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