发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMOPSITION PHOTOCURABLE PATTERN FORMED FROM THE SAME AND IMAGE DISPLAY COMPRISING THE PATTERN
摘要 본 발명은 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 특정 구조의 반복단위를 포함하는 제1 수지를 포함하는 알칼리 가용성 수지(A), 중합성 화합물(B), 광중합 개시제(C), 특정 구조로 표시되는 표시되는 산화방지제(D) 및 용매(E)를 포함함으로써 내광성이 우수하고, 그로부터 제조된 패턴은 밀착력 및 현상 잔막률이 높아 패턴성이 우수한 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
申请公布号 KR20170003064(A) 申请公布日期 2017.01.09
申请号 KR20150093237 申请日期 2015.06.30
申请人 동우 화인켐 주식회사 发明人 조용환;안보은;전지민
分类号 G03F7/033;C08F220/34;C08F224/00;G03F7/00;G03F7/027 主分类号 G03F7/033
代理机构 代理人
主权项
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