发明名称 NEGATIVE TONE DEVELOPER COMPOSITION FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY
摘要 기판을 제공하는 단계; 상기 기판 위에 재료층을 형성하는 단계; 상기 재료층의 일부분을 방사선에 노광시키는 단계; 및 상기 재료층의 비노광 부분을 현상액 중에서 제거하여, 패터닝된 재료층을 형성하는 단계를 포함하는 리소그래피 패터닝 방법. 상기 현상액은 1.82 초과의 로그 P 값을 가지고 유기 용매를 포함한다. 일 실시형태에서, 상기 유기 용매는 화학식 CHRCHRCHRCHRCOOCHR로 나타내어지는 n-부틸 아세테이트 유도체이며, 상기 화학식에서, R, R, R, R, 및 R는 각각 수소, 메틸기, 에틸기, 및 플루오로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
申请公布号 KR20170003362(A) 申请公布日期 2017.01.09
申请号 KR20150169119 申请日期 2015.11.30
申请人 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 发明人 라이 웨이한;창 칭유
分类号 G03F7/32;G03F7/004;G03F7/075;G03F7/30;G03F7/42 主分类号 G03F7/32
代理机构 代理人
主权项
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