发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMOPSITION PHOTOCURABLE PATTERN FORMED FROM THE SAME AND IMAGE DISPLAY COMPRISING THE PATTERN
摘要 본 발명은 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 특정 구조로 표시되며, 수산기 당량이 130 내지 190 g/moL이고 분자량이 500 이상인 산화 방지제를 포함함에 따라, 그로부터 제조된 패턴의 홀패턴(Hole Pattern) 해상도가 높고 밀착성과 투과율이 우수한, 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
申请公布号 KR20170003065(A) 申请公布日期 2017.01.09
申请号 KR20150093238 申请日期 2015.06.30
申请人 동우 화인켐 주식회사 发明人 조용환;김성빈;전지민
分类号 G03F7/004;G03F7/00;G03F7/027;G03F7/033 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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