| 摘要 |
일 실시예에 따르면, 광축에 대해 경사진 방향으로부터 조명광으로 조명 광학계에 의해 조사된 포토마스크 상에 배치되고, 투영 광학계를 통해 기판 상에 잠상을 형성하는데 사용되는 마스크 정렬 마크가 제공된다. 마스크 정렬 마크는 실질적으로 P = λ/{2×(1 - σ)×(LNA)}의 피치에서 미리 결정된 방향으로 배열된 복수의 패턴을 포함하고, 여기서, σ는 투영 광학계의 대물측의 개구수(LNA)에 대한 조명 광학계로부터 포토마스크 상에 입사된 조명광의 개구수(INA)의 비[(INA)/(LNA)]이고, λ는 광의 파장이다. |
