| 发明名称 |
Method and Device for Plasma Treatment of Substrates |
| 摘要 |
본 발명은 서로 대향되어 배열될 수 있는 제 1 전극(1) 및 제 2 전극(12)을 가진, 플라즈마와 적어도 하나의 기판(7)을 충돌시키기 위한 장치에 관한 것으로서, 상기 전극들은 상기 전극들(1, 12) 사이에 플라즈마를 생성하도록 함께 형성되고, 상기 전극들(1, 12) 중 적어도 하나는 적어도 2개의 전극 유닛(2, 3)으로부터 형성된다. 추가적으로, 본 발명은 대응하는 방법에 관련된다. |
| 申请公布号 |
KR20170002396(A) |
申请公布日期 |
2017.01.06 |
| 申请号 |
KR20167030160 |
申请日期 |
2014.05.09 |
| 申请人 |
에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 |
发明人 |
글린스너, 토마스;플뢰트겐, 크로스토프;베르나우에르, 조한;바겐레이트네르, 토마스;비에제르, 토마스;슈미트, 플로리안;플라흐, 토마스;안젠그루베르, 로만;노네스, 알렉산데르;크리에비쉬, 우웨 |
| 分类号 |
H01J37/32;H01L21/687 |
主分类号 |
H01J37/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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