摘要 |
마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 투영 대물 렌즈는 투영 광이 통과하는 2개의 대향 광학 표면(46, 48)과 두 광학 표면(46, 48) 사이에서 연장되는 원주 방향 림 표면(50)을 구비하는 굴절 광학 소자(44; 44a, 44b)를 포함하는 파면 보정 장치(42)를 포함한다. 제1 및 제2 광학계(OS1, OS2)가 제1 및 제2 가열 광(HL1, HL2)의 적어도 일부분이 굴절 광학 소자(44; 44a, 44b)에 들어가도록 상기 제1 및 제2 가열 광을 림 표면(50)의 상이한 부분으로 지향시키도록 구성된다. 가열 광(HL1, HL2)의 부분적인 흡수에 의해 유발되는 온도 분포는 파면 오차를 보정하는 굴절률 분포를 굴절 광학 소자(44; 44a, 44b) 내부에 생성한다. 적어도 제1 광학계(OS1)는 초점 영역(56)으로부터 나오는 제1 가열 광이 림 표면(50)에 입사하도록 제1 가열 광을 초점 영역(56)에 집속시키는 집속 광학 소자(55)를 포함한다. |