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发明名称
炭素質物質をガス化するシステム及び方法
摘要
炭素質物質の粉末をガス化するシステム及びガス化する方法。本発明のシステムは、炭素質物質反応装置及びガス返送装置を含む。ガス返送装置は、反応装置から下降する冷却及び予備浄化された粗合成ガスの一部を昇圧し、反応装置から上昇する高温の粗合成ガスに混合してその温度を低下させるために使用される。本発明の方法は、ガス化反応装置において炭素質物質及びガス化剤を反応させることにより粗合成ガス及びアッシュ及びスラグを生成させ、高温の粗合成ガスの一部をフライアッシュ及び液状スラグと共に下降させると共に、高温の合成ガスの一部をフライアッシュと共に上昇させることと;下降する高温粗合成ガスを冷却し、予備浄化し、スラグを除去した後、圧縮し、湿潤した粗合成ガスを本発明のシステムに噴射することにより、上昇する高温の粗合成ガスと混合することと;フライアッシュと共に上昇する高温合成ガスの残部を一次冷却器から噴射される低温の湿潤合成ガスと混合することにより冷却し、任意的に降温反応段階に流入させることと;冷却又は降温反応後の粗合成ガスをそのまま上昇させ、上部冷却段階を通過させて再び冷却し、アッシュを除去することにより粗合成ガスを得ることと、を含む。【選択図】図2
申请公布号
JP2017500434(A)
申请公布日期
2017.01.05
申请号
JP20160554785
申请日期
2014.11.21
申请人
チャンチョン エンジニアリング シーオー.,エルティーディー.CHANGZHENG ENGINIEERING CO.,LTD.
发明人
シン,ウェイ;リ,ホンハイ;ガオ,ルイホン;チェン,ヨンジン;リ,シャオフェイ;リュウ,ピン;リ,リーズー
分类号
C10J3/48;C10J3/46
主分类号
C10J3/48
代理机构
代理人
主权项
地址
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