发明名称 |
半導体装置用ボンディングワイヤ |
摘要 |
【課題】Cu合金芯材とその表面に形成されたPd被覆層とを有する半導体装置用ボンディングワイヤにおいて、高温におけるボール接合部の接合信頼性向上と、耐力比(=最大耐力/0.2%耐力):1.1〜1.6の両立を図る。【解決手段】ワイヤ中に高温環境下における接続信頼性を付与する元素を含むことによって高温におけるボール接合部の接合信頼性を向上し、さらにボンディングワイヤのワイヤ軸に垂直方向の芯材断面に対して結晶方位を測定した結果において、ワイヤ長手方向の結晶方位のうち、ワイヤ長手方向に対して角度差が15度以下である結晶方位<100>の方位比率を30%以上とし、ボンディングワイヤのワイヤ軸に垂直方向の芯材断面における平均結晶粒径を0.9〜1.5μmとすることにより、耐力比を1.6以下とする。【選択図】なし |
申请公布号 |
JP2017005256(A) |
申请公布日期 |
2017.01.05 |
申请号 |
JP20160151318 |
申请日期 |
2016.08.01 |
申请人 |
日鉄住金マイクロメタル株式会社;新日鉄住金マテリアルズ株式会社 |
发明人 |
山田 隆;小田 大造;榛原 照男;大石 良;齋藤 和之;宇野 智裕 |
分类号 |
H01L21/60;C22C9/00;C22C9/02;C22C9/04;C22C9/06 |
主分类号 |
H01L21/60 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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