Substrat zum Tintenstrahldrucken und Verfahren zu dessen Herstellung

摘要

Substrat zum Tintenstrahldrucken bestehend aus einem Grundsubstrat (1) mit einer auf der Grundsubstratoberfläche angeordneten Schichtstruktur (2) aus einem zur Lochinjektion bei polymeren OLED geeigneten Material und einer darauf angeordneten, nichtkontinuierlichen Photolackschichtstruktur (3) gekennzeichnet durch eine nichtkontinuierliche, auf der Photolackschichtstruktur (3) angeordneten Schichtstruktur (5), herstellbar aus einem C3F6-, C3F8- oder C2F4-Gas mittels chemischer Gasphasenabscheidung bei einem Druck von 200 Pa und einer Leistung von 200 W über 60 s oder aus Polysiloxan, wobei die Schichtstruktur (5) eine Höhe von 1 nm bis 300 nm aufweist.