| 发明名称 |
レーザー結晶化設備に起因するムラを定量化するシステム及びレーザー結晶化設備に起因するムラを定量化する方法 |
| 摘要 |
【課題】ムラを定量化するシステム及び方法を提供する。【解決手段】本発明は、レーザー結晶化装置１００を含むレーザー結晶化設備１０に起因するムラ定量化システムにおいて、レーザー結晶化装置１００によって基板２０の結晶化を行い、結晶化された基板２０を移動させながらムラをリアルタイムで定量化することができるように、ムラ定量化装置２００がレーザー結晶化設備１０の内部に形成されることを特徴とする、レーザー結晶化設備に起因するムラを定量化するシステム、及びレーザー結晶化設備に起因するムラを定量化する方法。【選択図】図１ |
| 申请公布号 |
JP2017005252(A) |
申请公布日期 |
2017.01.05 |
| 申请号 |
JP20160113366 |
申请日期 |
2016.06.07 |
| 申请人 |
エイピー系▲統▼股▲フン▼有限公司ＡＰ ＳＹＳＴＥＭＳ ＩＮＣ． |
发明人 |
ソ，イ・ビン;チョウ，ミン・ヨン;チョウ，サン・ヘ;キム，ヒュン・ジュン;キム，スン・ファン |
| 分类号 |
H01L21/66;B23K26/03;B23K26/352;H01L21/20;H01L21/268 |
主分类号 |
H01L21/66 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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