Photoresiststruktur und Verfahren zu ihrer Herstellung

摘要

Die Erfindung betrifft eine Photoresiststruktur (110), ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Röntgenprismenlinse, als Röntgengitter oder als fluidische Filterstruktur. Die Photoresiststruktur (110) umfasst eine Vielzahl von Mikrostrukturen (112), welche aus einem ausgehärteten Photoresistmaterial (116) gebildet sind und die jeweils durch einen Zwischenraum (118) voneinander getrennt sind. Die Photoresiststruktur (110) umfasst weiterhin mindestens eine in den Zwischenraum (118) zwischen den Mikrostrukturen (112) eingebrachte Stützstruktur (126), wobei die Stützstruktur (126) in Form einer statistisch verteilten, dünnwandigen Struktur (128) vorliegt. Die vorgeschlagene Stützstruktur (126) kann aufgrund ihrer statistisch verteilten, dünnwandigen Struktur (128) die Funktion der Mikrostrukturen (112) in der Photoresiststruktur (110) nur geringfügig beeinträchtigen. Zudem können die Mikrostrukturen (110) und die Stützstruktur (126) in einem einzigen Belichtungsschritt hergestellt werden. Außerdem lässt sich das Layout der Mikrostruktur (112) unabhängig von der Stützstruktur (126) ändern.