磁気抵抗効果素子の製造方法

摘要

磁気抵抗効果素子の製造工程において、素子分離後の側壁に付着した再付着膜中の貴金属原子を効率良く除去し、再付着膜に起因するショートを防止した製造方法を提供する。素子分離後の磁気抵抗効果素子側壁に形成された再付着膜に対してＫｒガス又はＸｅガスのプラズマを用いて形成したイオンビームを照射することにより、再付着膜中から貴金属原子を選択的に除去する。