发明名称 |
Plasmaquelle, Prozessanordnung und Verfahren |
摘要 |
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Plasmaquelle (100a, 200a, 600) Folgendes aufweisen: einen Plasmaerzeugungsbereich (111); und eine Elektrode (102) zum Versorgen des Plasmaerzeugungsbereichs (111) mit elektrischer Energie; wobei die Elektrode (102) zumindest eine Vertiefung (104) aufweist, in welche der Plasmaerzeugungsbereich (111) zumindest teilweise hinein erstreckt ist; wobei die Vertiefung (104) entlang einer ersten Richtung eine größere Ausdehnung (101d) aufweist als entlang einer zweiten Richtung, die quer zu der ersten Richtung ist; und wobei die Vertiefung (104) entlang der ersten Richtung abgeschrägt ist. |
申请公布号 |
DE102015110562(A1) |
申请公布日期 |
2017.01.05 |
申请号 |
DE201510110562 |
申请日期 |
2015.07.01 |
申请人 |
VON ARDENNE GmbH |
发明人 |
Hartung, Johannes;Thom, Wilhelm;Schade, Klaus;Stahr, Frank |
分类号 |
H05H1/24;C23C14/34;H01J37/32 |
主分类号 |
H05H1/24 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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