发明名称 Plasmaquelle, Prozessanordnung und Verfahren
摘要 Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Plasmaquelle (100a, 200a, 600) Folgendes aufweisen: einen Plasmaerzeugungsbereich (111); und eine Elektrode (102) zum Versorgen des Plasmaerzeugungsbereichs (111) mit elektrischer Energie; wobei die Elektrode (102) zumindest eine Vertiefung (104) aufweist, in welche der Plasmaerzeugungsbereich (111) zumindest teilweise hinein erstreckt ist; wobei die Vertiefung (104) entlang einer ersten Richtung eine größere Ausdehnung (101d) aufweist als entlang einer zweiten Richtung, die quer zu der ersten Richtung ist; und wobei die Vertiefung (104) entlang der ersten Richtung abgeschrägt ist.
申请公布号 DE102015110562(A1) 申请公布日期 2017.01.05
申请号 DE201510110562 申请日期 2015.07.01
申请人 VON ARDENNE GmbH 发明人 Hartung, Johannes;Thom, Wilhelm;Schade, Klaus;Stahr, Frank
分类号 H05H1/24;C23C14/34;H01J37/32 主分类号 H05H1/24
代理机构 代理人
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