プラズマシステム

摘要

【課題】プラズマエッチング処理の面内均一性が良好な装置を提供する。【解決手段】プラズマ源２００は、リングプラズマチャンバ２１０と、リングプラズマチャンバの外側に巻かれた一次巻線と、リングプラズマチャンバが貫通している複数のフェライト２０４と、リングプラズマチャンバを処理チャンバに結合する複数のプラズマチャンバ流出口２２０と、を備える。プラズマチャンバ流出口の各々は、プラズマ制限部２１４を有する。プラズマを生成するためのシステムおよび方法も開示される。【選択図】図２Ｄ