| 发明名称 |
液体処理方法、対象物処理方法、液体処理装置、対象物処理装置、及びプラズマ処理液 |
| 摘要 |
【課題】高い活性を有し、その持続性及び保存性に優れた処理液を生成することができる。【解決手段】本開示の一態様に係る液体処理方法は、液体の近辺又は液体中でプラズマを発生させることで生成されたｐＨが６以上９以下のプラズマ処理液を準備するステップと、プラズマ処理液のｐＨを、６より小さい、又は、９より大きい値に変化させるステップとを含む。【選択図】図３ |
| 申请公布号 |
JP2017001020(A) |
申请公布日期 |
2017.01.05 |
| 申请号 |
JP20160104736 |
申请日期 |
2016.05.25 |
| 申请人 |
パナソニックＩＰマネジメント株式会社 |
发明人 |
木宮 宏和;今井 伸一 |
| 分类号 |
C02F1/48;A61L2/18;C02F1/46;H05H1/24 |
主分类号 |
C02F1/48 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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