发明名称 |
銅錯体の製造方法およびこれを含有する導電膜形成用組成物 |
摘要 |
【課題】高濃度で保存性に優れた導電膜形成用組成物の調製が可能である、構造的に安定な銅錯体の製造方法を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される、銅化合物とアルカノールアミンとからなる5員環または6員環構造の銅錯体の製造方法であって、前記銅化合物1molに対して、前記アルカノールアミンを1mol以上2mol未満添加する。【化1】[式中、R1およびR2は各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表し、R3およびR4は各々独立に、任意の置換基を表し、nは2または3である]【選択図】なし |
申请公布号 |
JP2017001978(A) |
申请公布日期 |
2017.01.05 |
申请号 |
JP20150116153 |
申请日期 |
2015.06.08 |
申请人 |
国立大学法人北海道大学 |
发明人 |
米澤 徹;塚本 宏樹 |
分类号 |
C07C213/08;C07C51/347;C07C53/06;C07C215/08;C07F1/08;H01B5/14;H01B13/00 |
主分类号 |
C07C213/08 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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