发明名称 |
レジスト光硬化性組成物、プリント配線板及び電子部品の製造方法 |
摘要 |
【課題】酸化チタンが使用されていることにより、光の反射率が高いレジスト膜を得ることができ、更にレジスト膜の耐湿性及び密着性と、光硬化性組成物の保存安定性とを両立することができるレジスト光硬化性組成物を提供する。【解決手段】本発明に係るレジスト光硬化性組成物は、光硬化性化合物と、硫黄原子含有化合物と、塩素法ルチル型酸化チタンと、光重合開始剤とを含み、エポキシ化合物を含まないか、又は、エポキシ化合物を10重量%未満で含む。【選択図】図1 |
申请公布号 |
JP2017002294(A) |
申请公布日期 |
2017.01.05 |
申请号 |
JP20160112895 |
申请日期 |
2016.06.06 |
申请人 |
積水化学工業株式会社 |
发明人 |
西村 貴史;▲高▼橋 駿夫;金 千鶴 |
分类号 |
C08F2/48;C08F2/44;G03F7/004;G03F7/027;H05K3/28 |
主分类号 |
C08F2/48 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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