| 摘要 |
【課題】 基板に投影されるパターンの像の原版のパターンからのずれを低減する。【解決手段】 走査露光装置は、原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、前記基板の表面位置を計測する計測器と、前記計測器により計測された前記表面位置に基づいて前記投影光学系のデフォーカス分布を求め、該求められたデフォーカス分布、前記投影光学系の非テレセン度分布および露光光の照度分布に基づいて前記基板に投影される前記パターンの像の前記原版のパターンからのずれ量を求める制御部と、を備える。【選択図】図６ |
