| 摘要 |
【課題】位相シフト膜を形成する材料にケイ素系材料を適用した場合でも、その位相シフト膜の面内や膜厚方向における組成や光学特性の均一性が高く、複数の基板間における位相シフト膜の組成や光学特性の均一性も高く、さらに低欠陥であるマスクブランクを提供する。【解決手段】透光性基板１上に、ＡｒＦ露光光を所定の透過率で透過し、かつ透過するＡｒＦ露光光に対して所定量の位相シフトを生じさせる機能を有する位相シフト膜２が設けられたマスクブランクであって、位相シフト膜は、低透過層２１および高透過層２２が積層した構造を含み、低透過層および高透過層は、ケイ素および窒素からなる材料、または当該材料に半金属元素、非金属元素および希ガスから選ばれる１以上の元素を含有する材料で形成され、低透過層は、高透過層に比べて窒素含有量が相対的に少ない。【選択図】図１ |
