半導体装置の製造方法

摘要

【課題】電流特性に優れ、信頼性の高い半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】実施の一形態による半導体装置の製造方法は、第１絶縁膜と導電膜がこの順で基板上に複数回繰り返して積層された積層体に設けられたホールの内壁に、第２絶縁膜と、該第２絶縁膜上の多結晶シリコン膜と を形成する工程と、オゾンまたは酸素ラジカルの雰囲気中で熱アニール処理を行って前記第２絶縁膜と前記多結晶シリコン膜との界面における欠陥を減らす工程と、を持つ。【選択図】図１０