发明名称 |
モリブデンを含有する薄膜の製造方法、薄膜形成用原料及びモリブデンイミド化合物 |
摘要 |
本発明の薄膜の製造方法は、下記一般式(I)で表されるモリブデンイミド化合物を含有してなる薄膜形成用原料を気化させて得たモリブデンイミド化合物を含有する蒸気を基体上に導入し、これを分解及び/又は化学反応させて、基体上にモリブデンを含有する薄膜を形成する。本発明の薄膜形成用原料は、下記一般式(I)で表されるモリブデンイミド化合物を含有してなる。(式中、R1〜R10は水素原子又は炭素数1〜5の直鎖若しくは分岐状アルキル基を表し、R11は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐状アルキル基を表す。) |
申请公布号 |
JPWO2014077073(A1) |
申请公布日期 |
2017.01.05 |
申请号 |
JP20140546911 |
申请日期 |
2013.10.15 |
申请人 |
株式会社ADEKA |
发明人 |
佐藤 宏樹;上山 潤二 |
分类号 |
C23C16/18;C07F17/00;H01L21/316 |
主分类号 |
C23C16/18 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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