| 摘要 |
【課題】レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有し、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）と、下記一般式（ａ９−１）で表される構成単位（ａ９）とを含有することを特徴とするレジスト組成物。［ＲはＨ、Ｃ１〜５のアルキル基またはＣ１〜５のハロゲン化アルキル基、ＹａはＣ、ＸａはＹａとともに２価の環状の炭化水素基を形成する基。Ｒａ０１〜Ｒａ０３は、Ｈ、Ｃ１〜１０の１価の鎖状飽和炭化水素基又は炭素数３〜２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基である。Ｙａ９１は単結合または２価の連結基であり、Ｒ９１は置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Ｒ９２は酸素原子または硫黄原子である。］［化１］【選択図】なし |
