发明名称 METHOD OF FORMING FINE PATTERN AND CLICHE FOR REVERSE OFFSET PRINTING
摘要 미세 패턴의 형성 방법 및 리버스 오프셋 인쇄용 클리쉐가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 패턴의 형성 방법에 따르면, 베이스 기판 상에 금속층을 형성하고, 상기 금속층 상에 포토레지스트를 도포하고, 마스크를 이용하여 상기 포토레지스트를 노광하고, 현상액을 이용하여 상기 포토레지스트의 일부를 제거하여 포토 패턴을 형성하고, 상기 금속층 상에 상기 포토 패턴에 인접한 영역에 도금 공정을 통하여 범프를 형성하고, 박리액을 이용하여 상기 포토 패턴을 제거한다. 따라서, 금속 범프의 형성을 통하여, 금속의 식각을 통한 금속 패턴의 형성시 패턴의 폭이 넓어지는 문제점을 해소할 수 있으며, 이에 따라 고 종횡비를 가지는 미세 패턴을 형성할 수 있다.
申请公布号 KR20170001774(A) 申请公布日期 2017.01.05
申请号 KR20150090297 申请日期 2015.06.25
申请人 주식회사 네패스 发明人 최제현;정은화;진준수;손혜란;노치형
分类号 G02F1/1335;G02F1/1337 主分类号 G02F1/1335
代理机构 代理人
主权项
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