阶梯膜层的形成方法

摘要

本发明提供了一种阶梯膜层的形成方法，包括如下步骤：提供基底，在所述基底上形成阻挡层；以所述阻挡层为掩膜，刻蚀所述基底形成一级阶梯；在所述阻挡层和所述一级阶梯上形成聚合物层；刻蚀靠近所述一级阶梯一侧的部分阻挡层，去除所聚合物层，在所述基底上形成阶梯面；以所述阻挡层为掩膜，刻蚀所述基底形成二级阶梯。在本发明提供的阶梯膜层的形成方法中，通过在阻挡层和形成的阶梯上覆盖一层聚合物层，减少了后续刻蚀工艺的影响，从而减少对阻挡层的损耗，进而使相同厚度的阻挡层能够形成更多级数的阶梯，提高了生产效率，于是降低了生产成本。

主权项

一种阶梯膜层的形成方法，其特征在于，包括如下步骤，S1：提供基底，在所述基底上形成阻挡层；S2：以所述阻挡层为掩膜，刻蚀所述基底形成一级阶梯；S3：在所述阻挡层和所述一级阶梯上形成聚合物层；S4：刻蚀靠近所述一级阶梯一侧的部分阻挡层，去除所聚合物层，在所述基底上形成阶梯面；S5：以所述阻挡层为掩膜，刻蚀所述基底形成二级阶梯。