| 发明名称 | 一种辅助基板、图案制备方法、QLED显示基板及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明实施例提供一种辅助基板、量子点发光图案的制备方法、QLED显示基板及其制备方法，涉及量子点发光二极管技术领域，相对于微接触印刷法制备量子点发光图案可降低生产成本，相对于喷墨打印法制备量子点发光图案可提高量子点发光图案的表面均匀度。该辅助基板用于在受体基板上形成量子点发光图案，包括：第一衬底基板、设置在所述第一衬底基板上的光热转化层以及设置在所述光热转化层上的量子点发光层。用于QLED显示器。 | ||
| 申请公布号 | CN106299144A | 申请公布日期 | 2017.01.04 |
| 申请号 | CN201610849632.4 | 申请日期 | 2016.09.23 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 鲍里斯·克里斯塔尔 |
| 分类号 | H01L51/50(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/50(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种辅助基板，用于在受体基板上形成量子点发光图案，其特征在于，包括：第一衬底基板、设置在所述第一衬底基板上的光热转化层以及设置在所述光热转化层上的量子点发光层。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||