发明名称 一种双台面直写式曝光机的曝光系统
摘要 本实用新型属于直写式曝光机的技术领域,具体涉及一种双台面直写式曝光机的曝光系统和曝光方法;解决的技术问题为:提供一种结构稳定、曝光效率较高的双台面直写式曝光机的曝光系统;采用的技术方案为:包括支撑板,支撑板通过支撑柱设置于双台面上方,支撑板上设有挖空部,挖空部的两侧分别设置有两根线性导轨,两根线性导轨上设有光路安装板,光路安装板通过驱动机构可在两条线性导轨上作步进运动,步进运动的方向垂直于双台面运动的方向,光路安装板上设有用于发射曝光光束的光路镜筒,光路镜筒的曝光方向朝向所述双台面;本实用新型适用于PCB板曝光领域。
申请公布号 CN205862101U 申请公布日期 2017.01.04
申请号 CN201620831924.0 申请日期 2016.08.02
申请人 无锡影速半导体科技有限公司 发明人 赵永;陈海巍
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人 翁斌
主权项 一种双台面直写式曝光机的曝光系统,包括支撑板(1),所述支撑板(1)通过支撑柱(2)设置于双台面(3)上方,其特征在于:所述支撑板(1)上设有挖空部(9),所述挖空部(9)的两侧分别设置有两根线性导轨(4),两根线性导轨(4)上设有光路安装板(5),所述光路安装板(5)通过驱动机构可在两条线性导轨(4)上作步进运动,所述步进运动的方向垂直于所述双台面(3)运动的方向,所述光路安装板(5)上设有用于发射曝光光束的光路镜筒(6),所述光路镜筒(6)的曝光方向朝向所述双台面(3)。
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