发明名称 电子产品用熔断器的制造工艺
摘要 本发明公开一种电子产品用熔断器的制造工艺,其灭弧玻璃层为一灭弧玻璃片,此灭弧玻璃片由硼硅酸铅玻璃组成,该灭弧玻璃片与所述熔体接触的表面具有若干微纳米孔洞,该灭弧玻璃片通过以下步骤获得:在所述灭弧玻璃片表面通过旋涂涂覆一压印胶层;将下表面具有若干微纳米直径的凸点的模具压在所述压印胶层上,此时,所述模具下表面与涂覆感光胶层接触,通过热压法或者紫外感光法使压印胶层固化;将模具从压印胶层表面移除;采用干法离子刻蚀方法刻蚀经步骤三的所述灭弧玻璃片;清洗去除残留的所述压印胶层,所述压印胶层由聚甲基丙烯酸甲酯组成。本发明制造工艺获得的灭弧玻璃能实现较好的灭弧能力,并提供较高的绝缘阻抗,避免了熔断器因电弧而烧毁。
申请公布号 CN104201063B 申请公布日期 2017.01.04
申请号 CN201410464527.X 申请日期 2012.03.13
申请人 苏州晶讯科技股份有限公司 发明人 冯波;张甦;龚建;仇利明
分类号 H01H69/02(2006.01)I 主分类号 H01H69/02(2006.01)I
代理机构 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人 马明渡;王健
主权项 一种电子产品用熔断器的制造工艺,其特征在于:所述熔断器由两个接线端子、陶瓷片、熔体和灭弧玻璃层(1)组成,所述熔体位于陶瓷片表面,两个接线端子分别与熔体两端电连接,灭弧玻璃层(1)覆盖于所述熔体表面,其特征在于:所述灭弧玻璃层(1)为一灭弧玻璃片,此灭弧玻璃片(1)由硼硅酸铅玻璃组成,该灭弧玻璃片(1)与所述熔体接触的表面具有若干微纳米孔洞(2),该灭弧玻璃片(1)通过以下步骤获得:步骤一、在所述灭弧玻璃片(1)表面通过旋涂涂覆一压印胶层(3);步骤二、将下表面具有若干微纳米直径的凸点(4)的模具(5)压在所述压印胶层(3)上,此时,所述模具下表面与涂覆压印胶层接触,所述凸点的直径为20~500nm,高宽比为1:1~10;通过热压法或者紫外感光法使压印胶层固化;步骤三、将步骤二中所述模具(5)从压印胶层(3)表面移除;步骤四、采用干法离子刻蚀方法刻蚀经步骤三的所述灭弧玻璃片(1),从而在此灭弧玻璃片(1)表面形成若干所述微纳米孔洞(2),此微纳米孔洞(2)的直径为150~300nm;步骤五、清洗去除残留的所述压印胶层(3),所述压印胶层(3)由聚甲基丙烯酸甲酯组成,所述微纳米孔洞(2)之间的间隔为300~600nm。
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