发明名称 |
一种密封装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种密封装置,包括密封堵和密封圈,所述密封堵的上端大于下端,所述密封圈为中空的软胶体,所述密封圈中空部分的斜度与所述密封堵的斜度一致,所述密封圈的软胶体中设置两圈凹槽,所述两圈凹槽中间的软胶体凸起的高度高于所述密封堵对应所述密封圈的位置。采用了本实用新型的技术方案,由于密封圈中间的软胶体凸起的高度高于密封堵对应密封圈的位置,具有更强的弹性,而且密封圈设置有两圈凹槽,所以能够在密封堵和密封圈之间形成三道密封匝,另外由于密封圈设置有两圈凹槽,即使有一些杂质或者灰尘,也会进入凹槽中,从而不会滞留在密封圈和密封堵之间,影响密闭性。 |
申请公布号 |
CN205859150U |
申请公布日期 |
2017.01.04 |
申请号 |
CN201620617432.1 |
申请日期 |
2016.06.22 |
申请人 |
姚卫平 |
发明人 |
姚卫平 |
分类号 |
F16J15/10(2006.01)I |
主分类号 |
F16J15/10(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种密封装置,其特征在于,包括密封堵和密封圈,所述密封堵的上端大于下端,所述密封圈为中空的软胶体,所述密封圈中空部分的斜度与所述密封堵的斜度一致,所述密封圈的软胶体中设置两圈凹槽,所述两圈凹槽中间的软胶体凸起的高度高于所述密封堵对应所述密封圈的位置。 |
地址 |
102218 北京市昌平区天通苑2区3号楼3单元102 |