发明名称 Method of forming a line pattern structure
摘要 라인 패턴 구조물 및 이의 형성 방법에서, 라인 패턴 구조물은 끊어진 부위를 포함하는 라인 형상을 갖는 적어도 하나의 제1 라인 패턴을 포함한다. 최외곽에 위치하는 상기 제1 라인 패턴과 이웃하여 상기 제1 라인 패턴과 평행한 연장 라인과, 상기 제1 라인 패턴의 끊어진 부위와 인접하는 영역에서 상기 제1 라인 패턴 방향으로 향하도록 상기 연장 라인으로부터 돌출된 적어도 하나의 돌출 패턴을 포함하는 2개의 제2 라인 패턴을 포함한다. 상기 라인 패턴 구조물은 불량이 감소되고 간단한 공정을 통해 형성될 수 있다.
申请公布号 KR101692407(B1) 申请公布日期 2017.01.04
申请号 KR20100080201 申请日期 2010.08.19
申请人 삼성전자주식회사 发明人 김종혁;김건수;신광식;백현철;조성순;윤영배;박정환
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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