发明名称 薄片类介质处理装置
摘要 本发明提供了一种薄片类介质处理装置,包括底座和上盖,所述上盖通过转轴与所述底座枢接并能够相对于所述底座打开或者闭合,所述薄片类介质处理装置还包括上盖支撑机构,所述上盖支撑机构包括能够在第一状态和第二状态之间切换的支撑体,当所述上盖相对于所述底座闭合时,所述支撑体处于所述第一状态,当所述上盖相对于所述底座打开设定角度时,所述支撑体能够处于所述第二状态,其中,当所述支撑体处于所述第一状态时,所述支撑体附着在所述上盖的外表面上,当所述支撑体处于所述第二状态时,所述支撑体的至少一部分脱离所述上盖的外表面,以支撑所述上盖。该薄片类介质处理装置在上盖打开时不会发生仰翻,不会产生由此引起的设备损坏问题。
申请公布号 CN106276356A 申请公布日期 2017.01.04
申请号 CN201510237206.0 申请日期 2015.05.11
申请人 山东新北洋信息技术股份有限公司 发明人 迟名波;姜天信;刘洋;杨民
分类号 B65H19/12(2006.01)I 主分类号 B65H19/12(2006.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 赵囡囡;唐轶
主权项 一种薄片类介质处理装置,包括底座和上盖,所述上盖通过转轴与所述底座枢接并能够相对于所述底座打开或者闭合,其特征在于,所述薄片类介质处理装置还包括上盖支撑机构,所述上盖支撑机构包括能够在第一状态和第二状态之间切换的支撑体,当所述上盖相对于所述底座闭合时,所述支撑体处于所述第一状态,当所述上盖相对于所述底座打开设定角度时,所述支撑体能够处于所述第二状态,其中,当所述支撑体处于所述第一状态时,所述支撑体附着在所述上盖的外表面上,当所述支撑体处于所述第二状态时,所述支撑体的至少一部分脱离所述上盖的外表面,以支撑所述上盖。
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