发明名称 |
一种同时处理氯硅烷残液和废气的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种同时处理氯硅烷残液和废气的方法,属于多晶硅生产行业产生技术领域。本发明将氯硅烷废气压入文丘里雾化器并使氯硅烷残液进入文丘里管,通过高速喉管混合雾化后一起进入吸收塔中,被吸收剂(水或盐酸)水解并吸收,实现氯硅烷废气和残液同时处理的目的,并且通过调节废气残液比实现吸收剂渣水比的调控,有效防止水解产物二氧化硅发生胶凝,保证二氧化硅的质量。本发明实现了氯硅烷残液和废气同时处理,并保证了后续产出二氧化硅的性能,且烷残液和废气处理仅需一套塔,减少了氯硅烷残液和废气分开处理装置的建设成本和运行成本。 |
申请公布号 |
CN106276924A |
申请公布日期 |
2017.01.04 |
申请号 |
CN201610694205.3 |
申请日期 |
2016.08.22 |
申请人 |
昆明理工大学 |
发明人 |
陈樑;赵义;李银光;黄兵;董森林;章江洪 |
分类号 |
C01B33/12(2006.01)I;C01B7/03(2006.01)I |
主分类号 |
C01B33/12(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种同时处理氯硅烷残液和废气的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将氯硅烷残液通入到残液储罐(1)中,并用氮气作为保护气充满残液储罐剩余空间,使残液罐保持正压,氯硅烷废气通入到废气缓冲罐(3)中;(2)用残液输送泵(2)将氯硅烷残液抽至文丘里雾化器(5)的进液管中,用风机(4)将氯硅烷废气送入文丘里雾化器(5)中,经收缩段加速,氯硅烷残液和氯硅烷废气在文丘里雾化器喉管处混合雾化;(3)混合雾化后的气体在水解吸收塔(8)中被吸收剂水解并吸收,落入塔底液封槽(6)发生反应产生挥发气体,挥发气体通过气相回流管(9)回流入水解吸收塔中部;(4)反应吸收后混合液经固液分离,液相的一部分作为稀盐酸回收利用,另一部分用循环泵(7)泵入水解吸收塔(8)作为水解吸收剂。 |
地址 |
650093 云南省昆明市五华区学府路253号 |