发明名称 一种抑制微细电化学加工杂散腐蚀的加工装置和方法
摘要 一种抑制微细电化学加工杂散腐蚀的加工装置和方法,该装置包括:储液槽;微细加工电极;高频脉冲电源;垂直位移台,用于带动所述微细加工电极实现加工所需的垂直进给运动;绝缘罩,所述绝缘罩包围在所述微细加工电极的外围;三维位移台,用于带动所述绝缘罩和所述垂直位移台实现水平的xy向以及垂直的z向运动;其中所述绝缘罩的垂直位置由所述三维位移台的z向运动控制,所述微细加工电极的垂直进给运动由所述垂直位移台控制,所述微细加工电极的平面扫描运动由所述三维位移台的xy向运动控制。本发明的加工装置和加工方法既可抑制型腔表面的杂散腐蚀,也可避免固定绝缘层对铣削侧壁加工的影响。
申请公布号 CN106270842A 申请公布日期 2017.01.04
申请号 CN201610844656.0 申请日期 2016.09.22
申请人 清华大学深圳研究生院 发明人 张旻;胡艳涛;王晓浩
分类号 B23H3/00(2006.01)I;B23H11/00(2006.01)I 主分类号 B23H3/00(2006.01)I
代理机构 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人 王震宇
主权项 一种抑制微细电化学加工杂散腐蚀的加工装置,其特征在于,包括:储液槽,用于放置电化学加工过程中使用的电解液,待腐蚀金属件安放在储液池中,被所述电解液浸没;微细加工电极,所述微细加工电极与所述待腐蚀金属件相对安置;高频脉冲电源,用于在所述微细加工电极和所述待腐蚀金属件之间加载高频脉冲电信号,使得所述电解液在所述待腐蚀金属件上加工;垂直位移台,用于带动所述微细加工电极实现加工所需的垂直进给运动;绝缘罩,所述绝缘罩包围在所述微细加工电极的外围;三维位移台,用于带动所述绝缘罩和所述垂直位移台实现水平的xy向以及垂直的z向运动;其中所述绝缘罩的垂直位置由所述三维位移台的z向运动控制,所述微细加工电极的垂直进给运动由所述垂直位移台控制,所述微细加工电极的平面扫描运动由所述三维位移台的xy向运动控制。
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